資料來源:
三民書局
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奈米微粒暴露改善技術探討 = Study on nanoparticle exposure improvement technology / 陳春萬研究主持 ; 蔡春進, 林冠宇共(協)同主持
- 作者: 陳春萬
- 其他作者:
- 其他題名:
- Study on nanoparticle exposure improvement technology
- [IOSH勞工安全衛生研究報告].
- [IOSH勞工安全衛生研究報告]. 111年度研究計畫
- 出版: 新北市 : 勞動部勞動及職業安全衛生研究所 民112
- 叢書名: [IOSH勞工安全衛生研究報告]. 111年度研究計畫 ;ILOSH111-H601
- 主題: 勞工衛生 , 職業衛生 , 勞工衛生 , 職業衛生
- 版本:1版
- ISBN: 9786267320280 (平裝): 新臺幣600元
- 一般註:集叢名據100年度所題"IOSH勞工安全衛生研究報告"著錄, 索書號沿用舊號 111年度研究計畫ILOSH111-H601 研究期間 : 中華民國111年3月29日至111年12月31日 含附錄
- 書目註:參考書目 : 面120-131
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- 系統號: 005702709 | 機讀編目格式
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奈米微粒逸散研究發現,當模擬危害源位於氣櫃內部中央,可變風量(VAV)氣櫃面速度下降及拉門開度提高時,奈米微粒逸散情形增加,雖然濃度不高,但部分時間可測得較明顯逸散情形。氣簾式(AC)氣櫃拉門開度由全開至低開時,發現在低開時有最多的微粒逸散。若模擬危害源置於氣罩內部左側,VAV氣櫃的面速度較高時及AC氣櫃的下吸速度較高時逸散情形較為明顯。使用VOC當作危害物時,測試結果也相同。電腦模擬所觀測之流場分布及微粒軌跡發現,氣流進入到氣櫃內部時,氣櫃皆會在拉門後方內部形成迴流區。當拉門開度較高時,危害物釋放後會隨氣流排出,並未觀測到逸散情形,但拉門開度降低時,危害物受到迴流影響移動軌跡較為複雜,在氣櫃內部不規則運動而累積,在VAV氣櫃模擬中也沒有發現逸散情形,只有在AC氣櫃且危害源在氣櫃左側模擬時有發現逸散情形。計畫所評估之VAV及AC氣櫃都可有效控制奈米微粒逸散,可供事業單位控制奈米微粒逸散參考。
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